可見(jiàn)光區(qū)透射光柵可將特定入射角的光線分散開(kāi)。分散角度取決于入射角和線間距。隨著入射角度的增大或者線寬的減小，分散量逐漸增大。線寬越大，效率越高；線寬越密，在長(zhǎng)波長(zhǎng)下降低了透射率，從而效率也會(huì)降低。

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更新日期：2025-12-15

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UV透射光柵是分光計(jì)和采用小型檢測(cè)器陣列的其他緊湊型系統(tǒng)的理想選擇。本產(chǎn)品以簡(jiǎn)單的方式在波長(zhǎng)范圍介于250 – 450nm之間的固定光柵應(yīng)用中分散光線。在入射光到達(dá)的粗紋槽間距時(shí)，光線就會(huì)在光柵相反面以固定角度被分散開(kāi)。隨著紋槽間距增大，衍射角度將減小。對(duì)偏振光相對(duì)不敏感，大體上也對(duì)校準(zhǔn)錯(cuò)誤不敏感。

型號(hào)：

更新日期：2025-12-15

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平面刻線衍射光柵（25x25x6mm）制作原始或者母光柵的初始步驟是對(duì)基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對(duì)其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長(zhǎng)的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整，可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測(cè)試。刻劃?rùn)C(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預(yù)定量對(duì)基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

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更新日期：2025-12-13

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平面刻線衍射光柵（50x50x9.5mm） 制作原始或者母光柵的初始步驟是對(duì)基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對(duì)其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長(zhǎng)的時(shí)間進(jìn)行調(diào)整，可能需要花費(fèi)幾天進(jìn)行設(shè)置并在實(shí)際刻劃之前進(jìn)行測(cè)試。刻劃?rùn)C(jī)必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預(yù)定量對(duì)基底進(jìn)行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

型號(hào)：

更新日期：2025-12-13

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